Voordelen van R05200 Tantalum -plaat
R05200 is een puur tantaalmateriaal (UNS R05200) dat voldoet aan de ASTM B708 -standaard en de volgende kernvoordelen biedt:
1. Uitstekende corrosieweerstand
Het heeft uitstekende prestaties in hoge temperatuur en sterke zuren (zoals zoutzuur, zwavelzuur, salpeterzuur) en chloride-omgevingen, en de corrosiebestendigheid van de corrosie overschrijdt die van titanium en Hastelloy .
Bestand tegen Aqua Regia -corrosie, geschikt voor extreme chemische omgevingen (E . g . geconcentreerde zwavelzuurverdampers) .
2. biocompatibiliteit
ISO 10993 gecertificeerde, niet-toxisch, niet-allergene, veel gebruikt in orthopedische implantaten (e . g . bottennagels, skull reparatieplaten) .
3. Hoge temperatuurstabiliteit
Met een smeltpunt van 2996 graden kan het lange tijd worden gebruikt na 600 graden en kan het een plasma -omgeving van 2000 graden weerstaan (e . g . raketmondstuk voering) voor een korte tijd .
4. Uitstekende fysieke eigenschappen
Hoge thermische geleidbaarheid (57 . 5 w/m · k) en elektrische geleidbaarheid (weerstand 13,5 μω · cm) voor hoogkrachtige condensatoren.
Lage coëfficiënt van thermische expansie (6 . 5 × 10⁻⁶/k) zorgt voor dimensionale stabiliteit in omgevingen op hoge temperatuur.
5. Verwerking aanpassingsvermogen
Verlenging van maximaal 25% na koud rollen maakt complex stempelen (e . g . dunwandige reactor voeringen) .
Verwerkingstechnologie van R05200 tantalum plaat
1. koud vormen
Rolling: multi-pass koude rollen (vervorming kleiner dan of gelijk aan 30% per pass), tussenliggende gloeien (1000-1200 graad /vacuum) .
Stempel: de matrijsopening wordt geregeld op 5-8% van de plaatdikte om randscheuren te voorkomen .
2. lassen
Elektronenstraallassen: vacuümomgeving (minder dan of gelijk aan 1 × 10⁻³ PA), vermogensdichtheid 3 × 10⁴ w/cm², beeldverhouding tot 20: 1.
TIG -lassen: argonzuiverheid groter dan of gelijk aan 99 . 999%, argonbescherming is vereist aan de achterkant en R05200 matchingcomponenten worden gebruikt voor lasdraden.
3. warmtebehandeling
Herkristallisatie gloeien: 1200 graden × 1H (vacuüm kleiner dan of gelijk aan 5 × 10⁻³ PA), korrelgrootte controle astm graad 6-8.
4. bewerking
Tools: Diamond-gecoate carbide met harkhoek 10-15 graad en achterhoek 6-8 graad .
Parameters: lineaire snelheid kleiner dan of gelijk aan 30 m/min, feed 0.05-0.1 mm/r, emulsiekoeling (pH neutraal) .
R05200 Tantalum -plaat Typische applicatievelden en cases
| Aanvraagvelden |
Specifieke toepassing |
Prestatievereisten |
Case -specificaties
|
|
Chemische apparatuur |
Reactor voering, condensorbuis |
160 graden geconcentreerde culfurinezuurcorrosieweerstand |
THK 3MMX2000 × 1000 mm |
|
Elektronica -industrie |
Hoge specifieke capaciteitscondensatoranode |
Oppervlakteruwheid ra kleiner dan of gelijk aan 0,2 μm |
0,1 mm tantalum folie, capaciteit 100, 000 μf/g |
|
Medische implantatie |
Schedelreparatieplaat, vasculaire stent |
ASTM F560 |
Thk 1,5 mm, 30% porositeit poreuze structuur |
|
Ruimtevaartindustrie |
Rocket -mondstuk keelvoering, satelliet thermische besturingscomponenten |
3000 graden onmiddellijke weerstand op hoge temperatuur |
C103 Coating Composite Structure, Thk 5mm |
|
Vacuümapparatuur |
Sputterdoel, enkele kristallen ovenverwarming |
Zuiverheid groter dan of gelijk aan 99,95%, korrelgrootte kleiner dan of gelijk aan 50 μm |
Φ300mm doelwit, 16,6 g/cm³ |
Populaire tags: R05200 Tantalum Sheet, China R05200 Tantalum -plaatfabrikanten, leveranciers, fabriek
